اعانه 15 سپتمبر 2024 – 1 اکتبر2024 د پیسو د راټولولو په اړه

Выращивание полупроводниковых гетероструктур с квантовыми...

Выращивание полупроводниковых гетероструктур с квантовыми точками InAs/GaAs методом методом газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений: Описание лабораторной работы

Байдусь Н.В., Звонков Б.Н.
دا کتاب تاسو ته څنګه خواښه شوه؟
د بار شوي فایل کیفیت څه دئ؟
تر څو چې د کتاب کیفیت آزمایښو وکړئ، بار ئې کړئ
د بار شوو فایلونو کیفیتی څه دئ؟
В пособии описаны основы технологии роста гетероструктур с квантовыми точками методом газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений (ГФЭ МОС). Цель работы: освоение основных принципов и экспериментальных навыков эпитаксиального выращивания полупроводниковых гетероструктур с квантовыми точками на основе арсенида галлия. Подготовлено в Научно-исследовательском физико-технологическом институте ННГУ
درجه (قاطیغوری(:
کال:
2001
خپرندویه اداره:
ННГУ им. Н.И. Лобачевского
ژبه:
russian
صفحه:
18
فایل:
PDF, 505 KB
IPFS:
CID , CID Blake2b
russian, 2001
په آن لاین ډول لوستل
ته بدلون په کار دي
ته بدلون ناکام شو

مهمي جملي